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Scaling behavior and coarsening transition of annealed ZnO films on Si substrate
  • 所属机构名称：大连理工大学
  • 会议名称：6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering
  • 成果类型：会议
  • 会场：Nagasaki, JAPAN
  • 相关项目：反应活性等离子体对功能薄膜的生长行为和薄膜质量的影响
作者： Gu, J. F.|Liu, Z. W.|Zhang, Q. Y.|Fu, W. J.|Liu, M.|Ma, C. Y.|
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