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窄禁带掺杂碲镉汞外延薄膜的调制光谱分析
  • 所属机构名称：中国科学院上海技术物理研究所
  • 会议名称：第十六届全国半导体物理学术会议
  • 成果类型：会议
  • 会场：中国甘肃兰州
  • 相关项目：掺杂碲镉汞半导体光学性质的红外调制光谱研究
作者： 褚君浩|何力|吴俊|查访星|李志锋|越方禹|吕翔|陆卫|马丽丽|邵军|
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