位置：成果数据库 > 会议 > 会议详情页
Windows界面下的正电子寿命分析程序
  • 所属机构名称：武汉大学
  • 会议名称：第十届全国正电子湮没谱学会议
  • 成果类型：会议
  • 会场：南宁
  • 相关项目：用高分辨数字式正电子寿命谱研究AlN、ZnO等半导体中的缺陷
作者： 李辉|王少阶|王柱|
同会议论文项目
用高分辨数字式正电子寿命谱研究AlN、ZnO等半导体中的缺陷
期刊论文 13 会议论文 2
同项目会议论文
数字式正电子寿命谱仪