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Influence of Applied Voltage on Space Charge Formation and Accumulation Characteristics of Low Densi
  • 所属机构名称：西安交通大学
  • 会议名称：2013 IEEE International Conference on Solid Dielectrics
  • 时间：2013.7.1
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：界面处理抑制高压直流绝缘中空间电荷注入的研究
作者： Yuanwei Zhu|
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