欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
会议
> 会议详情页
调制周期对Mg-Ni多层薄膜结构及氢化光学性能的影响
所属机构名称:浙江大学
会议名称:2010第九届中国国际纳米科技研讨会
成果类型:会议
会场:西安
相关项目:Mg2Ni/PdAg双层复合膜PLD法制备及氢渗透性能研究
作者:
王秀丽|
同会议论文项目
Mg2Ni/PdAg双层复合膜PLD法制备及氢渗透性能研究
期刊论文 2
会议论文 2
专利 1
同项目会议论文
Mg-Ni-PaAg films with different structure prepared by magnetron sputtering for hydrogen diffusion