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UV-embossing process for replicating micro optical element with continuous relief structure based on
  • 所属机构名称：哈尔滨工业大学
  • 会议名称：2010 OSA-IEEE-COS Advances in Optoelectronics and Micro/Nano-Optics, AOM 2010
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：纳米压印微光学器件中形貌误差产生机理及控制方法研究
作者： Jin, Peng1|Liu, Nan1|Wang, Guanxiong1|
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