位置：成果数据库 > 会议 > 会议详情页
Investigation of Ni/epi-SiGe layer stacks annealed by microwave heating
  • 所属机构名称：复旦大学
  • 会议名称：14th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2014
  • 时间：2014
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：超薄可控金属硅化物的形成工艺及机理研究
同会议论文项目
超薄可控金属硅化物的形成工艺及机理研究
期刊论文 22 会议论文 4
同项目会议论文
Investigation of mixing Co in ultra-thin NiPt silicide films
Investigation of novel junctionless MOSFETs for technology node beyond 22 nm
Formation of ultra-shallow junctions with pre-amorphization implant and microwave annealing