位置:成果数据库 > 会议 > 会议详情页
Formation of InAs quantum dots in silicon by ion implantation and subsequent annealing
  • 所属机构名称:武汉大学
  • 会议名称:16届全国化合物半导体材料微波器件和光电器件学术会议,西安(2010),352
  • 成果类型:会议
  • 相关项目:离子注入制备硅基III - V 族半导体量子点及其光电特性研究
同会议论文项目
同项目会议论文