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A combined method to reduce residual subsurface damage in optical grade polishing process
  • 所属机构名称：中国人民解放军国防科学技术大学
  • 会议名称：The 2nd International Conference on Nannomanufacturing
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：基于多特征偏振态信息的光学元件抛光亚表面损伤无损检测方法研究
作者： WANG Zhuo|
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