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硅的低场非均匀性磁电阻-从金属基电子学到硅磁电子学
  • 所属机构名称：清华大学
  • 会议名称：中科院上海硅酸盐研究所与清华大学材料科学与工程系学术交流
  • 时间：2011.10.10
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：过渡金属掺杂的C/Si薄膜结构中的正负磁阻及正负磁阻转换
作者： 章晓中|
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