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The effect of Si content on the performance of magnetron sputtering Hf-Si-N films.
  • 所属机构名称：哈尔滨工程大学
  • 会议名称：PBII&D 2011
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：化学转化膜形成过程中残余应力的原位动态研究
作者： XF Cui, G Jin, JL Hao|
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