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Layout Decomposition with Pairwise Coloring for Multiple Patterning Lithography
  • 所属机构名称：复旦大学
  • 会议名称：IEEE/ACM International Conference on Computer Aided Design (ICCAD2013)
  • 时间：2013.11.11
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：基于鲁棒控制理论的纳米工艺偏差下的超大规模集成电路性能分析方法研究
作者： Ye Zhang|Wai-Shing Luk|Hai Zhou|Changhao Yan|Xuan Zeng|
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