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Stress evolution in evaporated HfO2/SiO2 multilayers
  • 所属机构名称：中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 会议名称：6th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：光学镀膜元件的应力-面形演化及其控制技术
作者： 李静平|方明|贺洪波|邵建达|
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