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In situ S-doping of cubic boron nitride thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition
  • 所属机构名称：浙江大学
  • 会议名称：6th International Conference on Processing and Manufacturing of Advanced Materials - THERMEC'2009
  • 成果类型：会议
  • 会场：Berlin, Germany
  • 相关项目：高性能立方氮化硼薄膜制备过程中的基础研究
作者： Yang, Hangsheng|Kurebayashi, Norihiko|Yoshida, Toyonobu|
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