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Enhanced Kretschmann structure for maskless surface plasmon interference lithography
  • 所属机构名称：电子科技大学
  • 会议名称：37th International Conference on Micro and Nano Engineering
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：基于近场超级透镜的亚波长纳米光刻技术的研究
作者： Xiaowei Guo, Qiming Dong, Ruiying Shi, Shuhong|
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