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Development of a 20Х Schwarzschild projection optics for principle experiment of EUV at-wavelength i
  • 所属机构名称:北京理工大学
  • 会议名称:4th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies
  • 成果类型:会议
  • 相关项目:高数值孔径(NA>1)浸没光刻成像中偏振效应研究
作者: Liu Ke|Li Yanqiu|
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