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磁场退火对Ta/Ni65Co35薄膜磁电阻和传感器元件性能的影响
  • 所属机构名称：北京科技大学
  • 会议名称：2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：表面活化剂对超高密度磁记录薄膜材料性能影响的研究
作者： 于广华|
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