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不同晶格取向锰氧化物基异质结的界面势垒研究
  • 所属机构名称：中国科学技术大学
  • 会议名称：第六届全国磁性薄膜与纳米磁学会议暨中国（宁波）第一届磁性材料产业研讨会
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：磁介电材料的关键基础问题及其结构性能调控
作者： 高微微|孙继荣|魏爱东|尚大山|王晶|赵同云|沈保根|
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磁介电材料的关键基础问题及其结构性能调控
期刊论文 85 会议论文 58 专利 2
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