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射频等离子体刻蚀SiO_2的数值研究
  • 所属机构名称：大连理工大学
  • 会议名称：第十五届全国等离子体科学技术会议会议摘要集
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：反应离子刻蚀微观不均匀性的跨尺度研究
作者： 赵占强|戴忠玲|王友年|
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期刊论文 13 会议论文 5
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