位置：成果数据库 > 会议 > 会议详情页
Application of hydrogen silsesquioxane (HSQ) as etching mask for dense and ultra-sharp silicon tip a
  • 所属机构名称：中国科学院上海技术物理研究所
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：基于分形结构的多通道位置独立可调滤光片
同会议论文项目
基于分形结构的多通道位置独立可调滤光片
期刊论文 7 会议论文 2 获奖 3
同项目会议论文
一种可用于在线检测的纳米薄膜厚度精确测量方法