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喷气流与栅后流场掺混与干扰效应的探讨,
  • 期刊名称：《推进技术》
  • 时间：0
  • 页码：2002.06,Vol.23,No.3,pp223-225
  • 语言：中文
  • 相关项目：涡轮叶栅尾缘喷气与主流掺混及干扰效应的机理研究
作者： 王掩刚,刘波,曹志鹏|
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涡轮叶栅尾缘喷气与主流掺混及干扰效应的机理研究
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