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活动屏蔽膜板高深宽比微细电铸技术研究
  • ISSN号:1004-132X
  • 期刊名称:中国机械工程
  • 时间:0
  • 页码:1457-1461
  • 语言:中文
  • 分类:TQ153.44[化学工程—电化学工业]
  • 作者机构:[1]南京航空航天大学,南京210016
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50635040);教育部博士学科点专项基金资助项目(20050287020)
  • 相关项目:微细电加工及其微小装备的基础研究
中文摘要:

针对金属微结构器件制造难的问题,提出了活动屏蔽膜板高深宽比微细电铸技术,通过屏蔽膜板动态地限制电沉积的区域,可以用低深宽比的膜板图形加工出高深宽比的金属微结构,并且免除了去胶等难题。在对活动屏蔽膜板微细电铸电场及传质进行分析的基础上,开展试验研究,获得了特征尺寸为500μm,深宽比分别为3和5的微静电梳状驱动器梳齿及微圆柱电极阵列。

英文摘要:

The objective of this paper is to develop a technology of micro electroforming for the fabrication metal microstructures. In the proposed technology, a movable mask with low--aspect-- ratio patterns was used to confine the area of electrodeposition dynamically in order to produce high-- aspect--ratio metal microstructures. The proposed technology offers some unique advantages over competing technologies such as avoiding removal of photoresist, no wear of mask. In this work, the mask was made by micro drilling and milling on an Epon board. The current distribution was analyzed using FEM method,mass transport in trench--like feature was also studied. The results indicate that as the deposit builds up to near the mouth of the trench, the uniformity gradually deteriorates due to the current crowding and spherical flux diffusion. Micro static electrical combs and array of micro EDM electrodes with aspect ratio of 3 and 5 respectively are obtained. The feature scale of the microstructures is 500μm.

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期刊信息
  • 《中国机械工程》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国机械工程学会
  • 主编:董仕节
  • 地址:湖北工业大学772信箱
  • 邮编:430068
  • 邮箱:paper@cmemo.org.cn
  • 电话:027-87646802
  • 国际标准刊号:ISSN:1004-132X
  • 国内统一刊号:ISSN:42-1294/TH
  • 邮发代号:38-10
  • 获奖情况:
  • 1997年获中国科协期刊一等奖,第二届全国优秀科技...,机械行业优秀期刊一等奖,1999年获首届国家期刊奖,2001年获首届湖北十大名刊,中国期刊方阵“双高”期刊,2003第二届国家期刊奖提名奖,百种中国杰出学术期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:50788