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硅纳米线光致发光的原理及研究进展
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:TB383[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]北京航空航天大学物理学院,北京100191
  • 相关基金:国家自然科学基金(50772006)
中文摘要:

系统地介绍了导致硅纳米线(SiNWs)光致发光(PL)的主要原理,如量子限制效应、量子尺寸效应、硅纳米颗粒发光机理和杂质缺陷发光机理。同时从SiNWs的直径、测试温度、SiNWs外部包覆层、SiNWs的形态等几个方面出发,详细地归纳总结了近十多年来国内外对SiNWs的PL原理的研究成果及进展。

英文摘要:

The main principles which result in silicon nanowires(SiNWs) photoluminescence (PL) are systemically introduced, for example, quantum confinement effect, quantum size effect, Si nanoparticles emitting mechanism and impurities or defects emitting mechanism. At the same time, the research results and development of SiNWs PL principles in recent ten years both at home and abroad are summerized, from the perspective of the SiNWs diameter, test temperature, SiNWs external coated layer, SiNWs morphology and so on.

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期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主编:
  • 地址:重庆市渝北区洪湖西路18号
  • 邮编:401121
  • 邮箱:matreved@163.com
  • 电话:023-67398525
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
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  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:3397