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HCl气体辅助生长GaN纳米线阵列与机理研究
  • ISSN号:1005-0086
  • 期刊名称:《光电子.激光》
  • 时间:0
  • 分类:TN312.8[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]哈尔滨工业大学深圳研究生院,深圳518055, [2]哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,哈尔滨150001, [3]深圳信息职业技术学院,深圳518172
  • 相关基金:国家自然科学基金(61240015);广东省自然科学基金(9451805707003351,S2012010010030);深圳市基础研究计划项目(JCYJ20120613134210982,JCYJ20120615101957810);哈尔滨工业大学科研创新基金(HIT.NSFIR.2011123)
中文摘要:

首先在蓝宝石衬底上旋涂PMMA/copolymer双层胶,然后再进行电子束光刻处理,随后溅射铝膜,并结合剥离技术,从而制备图形化金属铝膜;最后再采用两步热处理法,使图形铝膜发生固相外延反应。在此过程中,侧重于电子束光刻和高温热处理的工艺优化研究。SEM测试结果表明,图形化铝膜在450℃低温氧化热处理24h后,其图形形貌没有发生明显改变;在温度低于1200℃的高温热处理1h后,图形仍然存在。HRXRD分析表明,图形化铝膜在450oC低温热处理24h后再在1000℃高温热处理1h,可在蓝宝石衬底上形成氧化铝外延薄膜;并且相比于基片,氧化铝外延薄膜的结晶质量还有所提高。本方法成功实现了高效大功率用LED蓝宝石图形衬底的制备。

英文摘要:

In this paper, patterned sapphire substrates were prepared by dual stage annealing of patterned AI films prepared by electron beam lithography of PMMA/copolymer bilayer resist. The designed four kinds of A1 patterns were obtained by optimizing the e-beam lithography process. The little change in the morphology of the patterns was observed after annealing for 24 h at 450 ℃. The patterns were retained after high temperature annealing for 1 h at less than 1200 ℃ HRXRD results indicated that the island patterns are epitaxially grown on sapphire substrates by dual-stage annealing for 24 h at 450℃ and then 1 h at 1000 ℃. Furthermore, the alumina epitaxial patterns have higher crystalline quality compared with sapphire substrates. The above-mentioned method has sueessfully achieved the preparation of patterned sapphire substrates for high-efficieney & high-power LED applications.

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期刊信息
  • 《光电子.激光》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:天津市教育委员会
  • 主办单位:天津理工大学 中国光学学会
  • 主编:巴恩旭
  • 地址:天津市西青区宾水西道391号
  • 邮编:300384
  • 邮箱:baenxu@263.net baenxu@aliyun.com
  • 电话:022-60214470
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-0086
  • 国内统一刊号:ISSN:12-1182/O4
  • 邮发代号:6-123
  • 获奖情况:
  • 中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:16551