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真空退火对氧化钒薄膜的相成分和电学性能的影响
  • ISSN号：1007-2276
  • 期刊名称：《红外与激光工程》
  • 时间：0
  • 分类：TN31N[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：[1]哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001
  • 相关基金：国家自然科学基金资助项目(50502014)
作者： 王银玲[1], 李美成[1], 彭化[1], 赵连城[1]
关键词： 氧化钒, 真空退火, 相成分, 电学性能
中文摘要：

利用真空退火工艺处理p-Si(100)衬底上磁控溅射制备的氧化钒多晶薄膜.利用X射线衍射(XRD)分析、原子力显微镜(AFM)以及四探针测试方法,研究了退火时间对薄膜的相成分和电学性能的影响,并观察分析了氧化钒薄膜的表面形貌.研究结果表明,随着退火时间的变化,薄膜的相成分不断发生变化,钒氧比例不断升高,可以得到多种氧化钒的相.适当的真空退火处理可以改善薄膜的表面质量,并且能有效地降低氧化钒薄膜的室温电阻率达两个数量级.

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期刊信息
  • 《红外与激光工程》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国航天科工集团
  • 主办单位:天津津航技术物理研究所
  • 主编：张锋
  • 地址：天津市空港经济区中环西路58号
  • 邮编：300308
  • 邮箱：irla@csoe.org.cn
  • 电话：022-58168883 /4/5
  • 国际标准刊号：ISSN：1007-2276
  • 国内统一刊号：ISSN：12-1261/TN
  • 邮发代号:6-133
  • 获奖情况:
  • 1996年获航天系统第五次科技期刊评比三等奖,1998年获航天系统第六次科技期刊评比二等奖,1997-2001年在天津市科技期刊评估中被评为一级期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:17466