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直流磁控溅射制备(-Si:H膜工艺及
  • 期刊名称：中国激光, 35(2): 1-4, 2008 (EI收录, 已录用)
  • 时间：0
  • 相关项目：近衍射极限光束质量大功率半导体激光器研究
作者： 刘春玲, 么艳平, 王春武, 王玉霞
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