欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
碳浓度对磁控溅射法制备W-Si-C-N涂层的结构和性能的影响
ISSN号:0921-5107
期刊名称:Materials Science and Engineering B-Solid State Ma
时间:2012.10.1
页码:1120-1125
相关项目:钨衬底上W-X-C(N)涂层的重水腐蚀机理研究
作者:
杨俊峰|蒋燕|袁志刚|王先平|方前锋|
同期刊论文项目
钨衬底上W-X-C(N)涂层的重水腐蚀机理研究
期刊论文 13
专利 2
同项目期刊论文
过渡金属二硫族化物的润滑性能
磁控溅射法制备W-Ni-N涂层的微观结构和机械性能
服役温度对涂层使用性能的影响
MoCN/MoC多层膜的结构及性能研究
放电等离子体烧结制备W-C涂层的表征和性能研究
溅射靶功率密度对氮化钨和氮化钽涂层结构和机械性能的影响
放电等离子体烧结制备W-Cr-C涂层的抗腐蚀性研究
纳米结构W-Ta-N涂层的制备、结构及机械性能
硅浓度对Mo-Al-Si-N涂层结构和机械性能的影响
磁控溅射制备W-Ta-N涂层的性能研究
放电等离子体烧结制备WC涂层包覆W的抗氧化和腐蚀性能
Synthesis and Characterization of Oxide Dispersion Strengthened Ferritic Steel via a Sol-Gel Route