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基于直接胶体晶体刻蚀技术的高度
  • 期刊名称：物理学报 56 4242-4246（2007）
  • 时间：0
  • 相关项目：高密度纳米硅平面阵列的研制及其场电子发射效应
作者： 李卫，徐岭，孙萍，赵伟明，黄信
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期刊论文 23
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