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Influence of total gas flow rate on micro crystalline silicon films prepared by VHF-PECVD
  • ISSN号：1009-1963
  • 期刊名称：CHINESE PHYSICS
  • 时间：0
  • 页码：1110-1113
  • 语言：中文
  • 相关项目：采用二维自适应流体模型对高速率微晶硅生长机理的研究
作者： Sun, J|Zhang, XD|Wei, CC|Zhu, F|Chen, F|Gao, YT|Zhao, Y|
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