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Effects of the Polishing Variables on the Wafer-Pad Interfacial Fluid Pressure in Chemical Mechanica
  • ISSN号:0013-4651
  • 期刊名称:Journal of the Electrochemical Society
  • 时间:2012
  • 页码:342-348
  • 相关项目:微纳制造中的表面/界面行为及控制技术研究
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