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沉积温度对等离子增强化学气相沉积TiN薄膜内应力的影响
  • ISSN号:1672-7126
  • 期刊名称:《真空科学与技术学报》
  • 时间:0
  • 分类:O484.2[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]西安交通大学, [2]青岛化工学院
  • 相关基金:国家自然科学基金 59001450
中文摘要:

实验表明,高速钢基体上的PECV-TiN薄膜处于压应力状态,其绝对值随沉积温度的升高而降低,反映微观组织状态及其不均匀性的衍射峰半高宽亦呈下降趋势,但晶体的择优取向受沉积温度影响较小。分析认为PECVD-TiN薄膜受离子轰击的影响较大,正常沉积温度下其内应力以本征应力为主,大小与薄膜的显微组织关系密切。较高温度下,热应力占主导地位,其大小主要决定于膜、基的热膨胀系数之差。更多还原

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期刊信息
  • 《真空科学与技术学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国真空学会
  • 主编:李德杰
  • 地址:北京朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
  • 邮编:100022
  • 邮箱:cvs@chinesevacuum.com
  • 电话:010-58206280
  • 国际标准刊号:ISSN:1672-7126
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5177/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:4421