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Analysis of Sharp Metal Edge diagonal to the Cell Cube in FDTD Grid
  • ISSN号：１５３１－１３０９
  • 期刊名称：IEEE Microwave and Wireless Components Letters
  • 时间：0
  • 作者或编辑：3448
  • 第一作者所属机构：解放军理工大学
  • 页码：13(8): 354－356
  • 语言：英文
  • 相关项目：电磁脉冲屏蔽研究
作者： Fehg Lu|Bin Chen|Yun Yi|Cheng Gao|Li-Hua Shi|Bi-Hua Zhou|
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