位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
HOSO＋NO反应的机理及动力学
  • ISSN号：1000-6818
  • 期刊名称：《物理化学学报》
  • 时间：0
  • 分类：O613.4[理学—无机化学;理学—化学] TP31[自动化与计算机技术—计算机软件与理论;自动化与计算机技术—计算机科学与技术]
  • 作者机构：[1]Institute of Computational Quantum Chemistry, College of Chemistry and Material Science, Hebei Normal University, Shijiazhuang, Hebei 050016, China
  • 相关基金：Project supported by the National Natural Science Foundation of China （Nos. 20973053, 20801017）, the Natural Science Foundation of Hebei Province （Nos. B 2011205058, B2010000371）, the Education Department Foundation of Hebei Province （Nos. 2009137, ZD2010126 ）.
作者： 李晓艳[1], 刘群[1], 郑世钧[1], 孟令鹏[1]
关键词： ELF, NCS, 卤素, 粘接, AIM, 分子静电势, 几何形状, 硫氰酸盐, NCS radical, halogen bonding, molecular electrostatic potentials, atoms in molecules, electron-local ization function
中文摘要：

在五建筑群结合的卤素的性质在 thiocyanate (NCS ) 之间形成了基，一个 BrCl 分子被原子的量子论在这份报纸在分子(QTAIM ) 和电子本地化功能(矮子) 分析。卤素原子的几何学在 N 原子结合了的计算结果表演比那些在 S 原子或 C 原子结合的是稳定的。分子的静电的潜力决定建筑群的几何学和稳定性。在捐赠电子的 NCS 激进分子的 S 原子或 N 原子的原子价盆被压缩，它的人口在结合卤素的建筑群的形成的过程期间减少。

英文摘要：

The nature of halogen bonding in five complexes formed between the thiocyanate （NCS） radical and a BrC1 molecule was analyzed by quantum theory of atoms in molecules （QTAIM） and electron-localization function （ELF） in this paper. The calculated results show that the geometry of the halogen atom bonded at the N-atom is stable than those bonded at S- or C-atom. The molecular electrostatic potentials determine the geometries and stabilities of the complexes. The valence basin of the S- or N-atom in the electron-donating NCS radical is compressed and its population decreases during the process of formation of the halogen-bonded complexes.

同期刊论文项目
AIM和ELF理论方法及应用的新拓展
期刊论文 29 会议论文 9
取代元素对镁基储氢合金结构和性质影响的理论研究
期刊论文 23 会议论文 12
电子密度拓扑分析理论方法研究弱键结构
期刊论文 49 会议论文 5
同项目期刊论文
Comparison in the Complexes of Oxygen-containing σ-electron Donor with Hydrogen Halide and Dihalogen
Isomerizations of CH3SO2: Quantum Chemistry and Topological Study
CH_3NO_2和CH_3ONO分解反应的量子化学和电子密度拓扑分析
CH_3SS与XO(X=F,Cl,Br)反应过程的电子密度拓扑研究
First-principles studies of the structures and properties of Al- and Ag-substituted Mg2Ni alloys and
(H)FNO+ 异构体的结构及异构化反应的量子化学研究
电子定域函数（ELF）理论方法简介—一种描述化学键的新模型
Mg_2Ni型镁基储氢合金研究新进展
HNCS与Cl原子的反应机理及电子密度拓扑分析
CH_3SH与NO_2的反应机理及动力学
(CH2)2O,(CH2)2S 与双卤分子间卤键的理论研究
HNCX ( X = O, S) 和 F 反应机理及电子密度拓扑分析
B…HY/BrY（B=C4H4,C6H6,Y=F,Cl,Br）分子间作用的电子密度拓扑研究
CH3NO异构体及异构化反应机理的量子化学研究
HNCX（X=O,S）和F反应机理及电子密度拓扑分析
CH3SH与NO2的反应机理及动力学
（H）FNO~＋异构体的结构及异构化反应的量子化学研究
稀有气体原子插入N—H和O—H键的理论研究
CH2XO(X=Cl，Br)与O2反应机理的理论研究
稀有气体原子插入炔烃中C-H键的理论研究
Theoretical Studies on the Hydrogen-bonding and π-Stacking Interactions in the m-Nisoldipine Poly
Isomerizations of CH(3)SO(2): Quantum Chemistry and Topological Study
First-principles studies of the structures and properties of Al- and Ag-substituted Mg(2)Ni alloys a
Comparison in the complexes of oxygen-containing sigma-electron donor with hydrogen halide and dihal
丝氨酸与水相互作用的量子化学研究
Theoretical Studies on the Halogen Bond between Propargyl Radical and Dihalogen Molecules
Theoretical Studies on the Structures and Isomerization of (H)FNO(+)
OCS、CO2、N2O与烯、炔烃之间π...π作用的电子密度拓扑研究
HNCS与Cl原子的反应机理及电子密度拓扑分析
Reaction Mechanisms and Kinetics for the Reaction of CH(3)SH+NO(2)
Theoretical Studies on the Halogen Bond between Oxirane or Thiirane and Dihalogen Molecules
Topological Analysis of Electronic Density on the Reactions of CH(3)SS with XO (X=F, Cl and Br)
Theoretical Study on Two Types of Weak Interactions Between Methylenecyclopropane and XY (X, Y = H,
Reaction Mechanisms and Kinetics for the Reaction of HO(2)+CH(2)S
Topological Analysis of Electron Density on the Interactions of B center dot center dot center dot H
N_2O与HX(X=F,Cl,Br)分子间作用的电子密度拓扑研究
Ab Initio and AIM Studies on Typical pi-Type and Pseudo-pi-Type Halogen Bonds: Comparison with Hydro
Reaction Mechanisms and Topological Studies of Electron Density on the Reaction of HNCX (X=O, S) and
A computational study on the nature of the halogen bond between sulfides and dihalogen molecules
Insight into the lithium/hydrogen bonding in (CH(2))(2)X ... LiY/HY (X: C=CH(2), O, S; Y=F, Cl, Br)
The Role of Molecular Electrostatic Potentials in the Formation of a Halogen Bond in Furan center do
系列氰化物与双卤分子间卤键的结构和性质
CH_2XO(X=Cl,Br)与O_2反应机理的理论研究
C_4H_6O,C_4H_6S与HX(X=F,Cl,Br)分子间氢键的理论研究
OCS与烯、炔烃之间S...π作用的电子密度拓扑分析
Quantum Chemical Study on the Isomers and Isomerization Reaction Mechanism of CH(3)NO
The Role of p Electrons in the Formation of Benzene-Containing Lithium-Bonded Complexes
AIM and ELF Analyses of Halogen Bonding in NCS:BrCl Complexes
Insight into the nature of the interactions of furan and thiophene with hydrogen halides and lithium
Cooperativity between S center dot center dot center dot pi and Rg center dot center dot center dot
Topological Analysis of Electron Density on the Halogen-bonding Interactions Between C(4)H(6)O, C(4)
过氧氢自由基HO_2与CH_2S的反应机理及动力学
（CH2）2O，（CH2）2S与双卤分子间卤键的理论研究
H_2CX,(CH_2)_2 X(X=O,S)与氟分子间卤键复合物结构和性质的研究
OCS与烯、炔烃之间S…π作用的电子密度拓扑分析
C_4H_6O,C_4H_6S与XF（X=F,Cl,Br）分子间卤键的电子密度拓扑研究
OCS,CO2,N2O与烯、炔烃之间π…π作用的电子密度拓扑研究
HOSO＋X（X=F,Cl,Br）的反应机理及电子密度拓扑分析
B…HY/BrY（B=C4H4,C6H6,Y=F,Cl,Br）分子间作用的电子密度拓扑研究
CH3NO异构体及异构化反应机理的量子化学研究
HNCX（X=O,S）和F反应机理及电子密度拓扑分析
CH3SH与NO2的反应机理及动力学
（H）FNO~＋异构体的结构及异构化反应的量子化学研究
CH2XO(X=Cl，Br)与O2反应机理的理论研究
CH3SS与XO（X=F，Cl，Br）反应过程的电子密度拓扑研究
(H)FNO+异构体的结构及异构化反应的量子化学研究
电子定域函数(ELF)理论方法简介——一种描述化学键的新模型
Comparative study on the Al-Al multiple bond in Na-2[Arx ' AlAlArx '] and H-2[Arx ' AlAlArx '] (Arx
系列氰化物与双卤分子间卤键的结构和性质
过氧氢自由基HO_2与CH_2S的反应机理及动力学
Topological Studies on the pi center dot center dot center dot pi Interactions between OCS, CO2, N2O
Nature of the Ga-Ga bonding in Na-2[Arx*GaGaArx*] (Arx* = C6H3-2,6-(C6H5)(2)): Electron localization
Assessment of intermolecular interactions at three sites of the arylalkyne in phenylacetylene-contai
OCS与烯、炔烃之间S…π作用的电子密度拓扑分析
C_4H_6O,C_4H_6S与XF（X=F,Cl,Br）分子间卤键的电子密度拓扑研究
OCS,CO2,N2O与烯、炔烃之间π…π作用的电子密度拓扑研究
HOSO＋X（X=F,Cl,Br）的反应机理及电子密度拓扑分析
B…HY/BrY（B=C4H4,C6H6,Y=F,Cl,Br）分子间作用的电子密度拓扑研究
CH3NO异构体及异构化反应机理的量子化学研究
HNCX（X=O,S）和F反应机理及电子密度拓扑分析
（H）FNO~＋异构体的结构及异构化反应的量子化学研究
CH2XO(X=Cl，Br)与O2反应机理的理论研究
期刊信息
  • 《物理化学学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:北京大学化学与分子工程学院承办
  • 主编：刘忠范
  • 地址：北京大学化学楼
  • 邮编：100871
  • 邮箱：whxb@pku.edu.cn
  • 电话：010-62751724
  • 国际标准刊号：ISSN：1000-6818
  • 国内统一刊号：ISSN：11-1892/O6
  • 邮发代号:82-163
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国科学引文索引（扩展库）,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:24781