位置:成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
氮氧化硅材料的研究进展
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:TQ174.15[化学工程—陶瓷工业;化学工程—硅酸盐工业]
  • 作者机构:昆明理工大学化学工程学院,昆明650500
  • 相关基金:国家自然科学基金(51364023); 云南省自然科学基金(2014FB129); 后备人才项目(2015HB014)
中文摘要:

综述了近几年氮氧化硅复合材料、氮氧化硅薄膜材料和介孔氮氧化硅材料的研究与发展现状。着重介绍了氮氧化硅薄膜材料的发光特性和折射率可调特性,及其不同的制备方法。同时介绍了介孔氮氧化硅材料和Si_3N_4/Si_2N_2O、SiC/Si_2N_2O及BN/SiNOf三种应用较多的氮氧化硅复合材料的研究现状。并对氮氧化硅材料的研究与应用进行了展望。

英文摘要:

Recent research and development of silicon oxynitride composites,silicon oxynitride film materials and mesoporous silicon oxynitride materials are reviewed in this paper.It focuses on the light-emitting properties and adjustable refractive index of silicon oxynitride film materials,as well as different preparation methods.This article also introduces the research status of mesoporous silicon oxynitride materials and three common silicon oxynitride composites(Si_3N_4/Si_2N_2O,SiC/Si_2N_2O and BN/SiNOf).Moreover,the research and application of silicon oxynitride materials are anticipated.

同期刊论文项目
同项目期刊论文
期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主编:
  • 地址:重庆市渝北区洪湖西路18号
  • 邮编:401121
  • 邮箱:matreved@163.com
  • 电话:023-67398525
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:3397