位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
The influence of moisture on atmospheric pressure plasma etching of PA6 films
  • ISSN号：1567-1739
  • 期刊名称：Current Applied Physics
  • 时间：0
  • 页码：230-234
  • 语言：英文
  • 相关项目：三维共形承载微带天线辐射元织造结构和其电磁学性能之间的关系研究
作者： Gao, Zhiqiang|Sun, Jie|Qiu, Yiping|Peng, Shujing|Yao, Lan|
同期刊论文项目
三维共形承载微带天线辐射元织造结构和其电磁学性能之间的关系研究
期刊论文 11 会议论文 1
同项目期刊论文
Influence of argon/oxygen atmospheric dielectric barrier discharge treatment on desizing and scourin
Fabrication and impact performance of three-dimensionally integrated microstrip antennas with micros
Influence of processing parameters on atmospheric pressure plasma etching of polyamide 6 films
Design and fabrication of microstrip antennas integrated in three dimensional orthogonal woven compo
Surface modification of a polyamide 6 film by He/CF4 plasma using atmospheric pressure plasma jet
Simulation on Dynamic Bending Features of Fabric Based on Fluid-Solid Interaction Technique
二维/三维玄武岩搭接织物增强复合材料接合性能研究
用常压等离子体射流技术去除不同含湿量的PVA浆料
三维正交机织玄武岩/芳纶混编复合材料的拉伸和剪切性能研究
介质阻挡放电等离子体用于苎麻纤维表面改性研究