欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Si(100)衬底上CeO_2薄膜的脉冲激光制备及性能研究
ISSN号:0258-7076
期刊名称:稀有金属
时间:2011
页码:709-714
相关项目:激光分子束外延生长CeO2薄膜与结构性能分析
作者:
陈勇|杨志民|张心强|
同期刊论文项目
激光分子束外延生长CeO2薄膜与结构性能分析
期刊论文 9
同项目期刊论文
高真空脉冲激光沉积CeO_2(111)/Si(111)薄膜的结构与形貌研究
Gd_2O_3-HfO_2栅介质薄膜的外延制备及Ge-MOS电学特性分析
Resistive switching behaviour of highly epitaxial CeO2 thin film for memory application
Si(100)衬底上CeO2薄膜的脉冲激光制备及性能研究
期刊信息
《稀有金属》
中国科技核心期刊
主管单位:中国科学技术协会
主办单位:北京有色金属研究总院
主编:屠海令
地址:北京新街口外大街2号
邮编:100088
邮箱:xxsf@grinm.com
电话:010-82241917 62014832
国际标准刊号:ISSN:0258-7076
国内统一刊号:ISSN:11-2111/TF
邮发代号:82-167
获奖情况:
中文核心期刊,冶金工业类核心期刊,中国科技论文统计源期刊
国内外数据库收录:
俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
被引量:13688