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微锗掺杂直拉单晶硅中的锗-空位复合体
  • ISSN号:1000-3290
  • 期刊名称:Acta Physica Sinica
  • 时间:0
  • 页码:063101-063101
  • 分类:TN304.12[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]中国计量学院理学院物理系,杭州310018
  • 相关基金:国家自然科学基金(批准号:10904134 10802083); 浙江省创新团队基金(批准号:2009R50005)资助的课题
  • 相关项目:自组装单分子膜中原子结构和电子性质的NEXAFS研究
作者: 吴太权|
中文摘要:

利用第一性原理研究了微锗掺杂直拉单晶硅中的锗和微缺陷的相互作用,其中微缺陷用一个空位、两个空位和三个空位模拟.CASTEP计算了锗与一个空位、两个空位和三个空位相互作用的情况,通过分析三种情况下锗与空位(或空位组中心)的间距及空位面积(或体积)的大小,分别给出了三种情况下最稳定的锗-空位复合体结构模型.计算表明在微锗掺杂硅单晶中由于锗的引入,空位容易团聚在锗原子附近,形成锗-空位复合体.

英文摘要:

The first-principls theory is used to study the interaction between the Ge atom and the vacancies in Ge-doped czochralski silicon. The CASTEP calculation shows the stable structural model of Ge atom and one vacancy,two vacancies and three vacancies through the distance between the Ge atom and vacancy(or the vacancy centers) and the size of the area(or volume).The calculation shows that the Ge atom introduced into the GCZ Si crystal tends to accumulate with the vacancy and then seeds for the Ge-vacancy complexes.

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期刊信息
  • 《物理学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会 中国科学院物理研究所
  • 主编:欧阳钟灿
  • 地址:北京603信箱(中国科学院物理研究所)
  • 邮编:100190
  • 邮箱:apsoffice@iphy.ac.cn
  • 电话:010-82649026
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3290
  • 国内统一刊号:ISSN:11-1958/O4
  • 邮发代号:2-425
  • 获奖情况:
  • 1999年首届国家期刊奖,2000年中科院优秀期刊特等奖,2001年科技期刊最高方阵队双高期刊居中国期刊第12位
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:49876