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低压Ar气氛下用PS/OCS/Si(111)叠
  • 期刊名称：王玉霞*，李赟，陈征，何海平，王建文，邹优鸣，人工晶体学报，2006年4月，第二期，337-341
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  • 相关项目：在垂直冷壁LPCVD反应器中外延生长优质单晶SiC薄膜
作者： 王玉霞*，李赟，陈征，何海平，
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