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考虑瞬态效应的缓变结HBT性能分析
  • ISSN号:1003-353X
  • 期刊名称:半导体技术
  • 时间:0
  • 页码:43-45
  • 语言:中文
  • 分类:TN32[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]广东工业大学物理与光电工程学院,广州510006, [2]浙江工业大学信息工程学院,杭州310014
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(10774031);广东省自然科学基金资助项目(07001790)
  • 相关项目:周期结构和金属表面等离子体增强的稀土发光动力学研究
中文摘要:

在包含晶格加热和非本地传输的瞬态效应过程下,漂移-扩散模型(DD)不再有效,需采用更精确的非等温能量平衡(NEB)模型。NEB模型的计算结果表明,对于基区厚度处于DD模型向全量子输运模型过渡的缓变结HBT而言,晶格加热和非本地传输所起的作用是明显的,而基区重掺杂引起的带阶的扰动对缓变节HBT性能的影响则可以忽略。

英文摘要:

The transient effects for nonlocal transport and lattice heating are obvious in the graded HBTs with the thickness of its base in the transition describing by drift-diffusion (DD) approximation and full quantum mechanism, so the drift-diffusion (DD) approximations can lead to unacceptable inaccuracies in the predicted electrical characteristics of those devices. A more accurate carrier transport modeling named nonisothennal energy balance (NEB) was used for describing the perforce of HBTs. It is concluded that the nonlocal transport and lattice heating have an important impact on the device characteristics, and that band offset disturbance resulted from heavy-impurity of the base has little impact on the electrical characteristics of those devices.

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期刊信息
  • 《半导体技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 主编:赵小玲
  • 地址:石家庄179信箱46分箱
  • 邮编:050051
  • 邮箱:informax@heinfo.net
  • 电话:0311-87091339
  • 国际标准刊号:ISSN:1003-353X
  • 国内统一刊号:ISSN:13-1109/TN
  • 邮发代号:18-65
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,中国科技论文统计用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:6070