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Study of reactions between HfO2 and Si in thin films with precise identification of chemical states
  • ISSN号：0169-4332
  • 期刊名称：Applied Surface Science
  • 时间：0
  • 页码：3440-3445
  • 语言：英文
  • 相关项目：层叠磁体阵列磁场中氧氮混合气体磁致气流行为与"磁筛"作用机理研究
作者： Sen Chen|Shiping Zhang|Hui Wang|Xianfei Li|Binbin Song|Ping Wu|
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