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Epitaxial Growth of Si(111)/Er2O3 (111) Structure on Si(111) by Molecular Beam Epitaxy
  • ISSN号：0256-307X
  • 期刊名称：Chinese Physics Letters
  • 时间：2011.3.3
  • 页码：52-56
  • 相关项目：非晶Er2O3选择性发射体兼减反射薄膜的物理特性研究
作者： Xu Run|Tang Min-Yan|Zhu Yan-Yan|Wang Lin-Jun|
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期刊论文 22
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期刊信息
  • 《中国物理快报：英文版》
  • 中国科技核心期刊
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  • 主办单位:中国科学院物理研究所、中国物理学会
  • 主编：
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  • 国际标准刊号：ISSN：0256-307X
  • 国内统一刊号：ISSN：11-1959/O4
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 中国期刊方阵“双高”期刊
  • 国内外数据库收录:
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  • 被引量:190