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硅半导体放电加工中的肖特基势垒特性研究
  • ISSN号:1005-0930
  • 期刊名称:应用基础与工程科学学报
  • 时间:0
  • 页码:664-671
  • 分类:TG662[金属学及工艺—金属切削加工及机床] TN301.1[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室,江苏南京210016, [2]南京航空航天大学机电学院,江苏南京210016
  • 相关基金:国家自然基金(50975142); 江苏省科技支撑计划(BE2009161); 江苏省博士后基金项目(1002009C)
  • 相关项目:半导体材料特殊电特性下的随动进电电火花线切割研究
中文摘要:

金属夹具与半导体接触会形成肖特基势垒,为了研究该势垒对半导体放电加工的影响,利用二极管和电阻模型建立了等效电路.固定端和放电端形成的肖特基势垒,都可等效成二极管,在放电回路中一个处于正向偏置,另一个处于反向偏置.本文通过两端金属进电的方法,研究了肖特基势垒对放电电流的影响,理论研究发现了半导体放电伏安曲线的3个特征量:导通角、击穿点和击穿角,并通过实验方法测量伏安曲线,找到了这3个特征量的关系.击穿角由电路中的电阻决定,与肖特基势垒无关,而导通角和击穿点由肖特基势垒决定,与电阻无关.

英文摘要:

To study the influence of Schottky barrier to semiconductor electrical discharge machining(EDM),which exits between metal clamp and semiconductor,a equivalent circuit was built by diode and resistor.The Schottky barriers between fixed-terminal and discharge terminal were seen as diodes,one at a forward bias,the other in reverse bias.In this paper,the influence of Schottky barrier to discharge current had been studied,using both ends of metal for conducting.It was found in theoretical study that the semiconductor-discharge voltammetry curves had three features:conduction angle,breakdown point and puncture angle,and these were measured by voltammetry curve experiments.Puncture angle is determined by the resistance in the circuit,nothing to do with the barrier,while the conduction angle and the breakdown point are determined by the barrier,nothing to do with the resistance.

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期刊信息
  • 《应用基础与工程科学学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国自然资源学会
  • 主编:倪晋仁
  • 地址:北京大学环境大楼312室
  • 邮编:100871
  • 邮箱:jbse@iee.pku.edu.cn
  • 电话:010-62753153
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-0930
  • 国内统一刊号:ISSN:11-3242/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:7313