欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
γ-辐照对纯Y2SiO5和Eu3+:Y2SiO5
期刊名称:光学学报, 2005, 25(12):1655-1658
时间:0
相关项目:高分辨率X射线相位成像单晶薄膜的制备及性能研究
作者:
庞辉勇,赵广军, 介明印,朱江,
同期刊论文项目
高分辨率X射线相位成像单晶薄膜的制备及性能研究
期刊论文 9
同项目期刊论文
Effect of annealing and gamma
显微成像荧光屏用无机闪烁单晶薄
Study on the growth, etch morp
Effect of γ-irradiation on sp
不同浓度Ce:YAP闪烁晶体性能研究
硅酸钇晶体的生长、腐蚀形貌和光
Crystal growth and optical pro
不同掺杂浓度Ce:YAP闪烁晶体的性能研究