欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Monoatomic layer removal mechanism in chemical mechanical polishing,process: A molecular dynamics st
ISSN号:0021-8979
期刊名称:Journal of Applied Physics
时间:0
页码:1-7
语言:英文
相关项目:超光滑表面加工中纳米颗粒与表面间的微观作用机制研究
作者:
Luo JB|Guo D|Si LN|
同期刊论文项目
超光滑表面加工中纳米颗粒与表面间的微观作用机制研究
期刊论文 10
会议论文 3
同项目期刊论文
Dynamic phase transformation of crystalline silicon under the dry and wet impact studied by molecula
聚苯乙烯纳米微球单层膜的制备、表征及其力学性能的研究
The effects of defects on performance of a micro comb resonator
Energy transfer under impact load studied by molecular dynamics simulation
微梳齿谐振器的动态仿真
Phase transformation during silica cluster impact on crystal silicon substrate studied by molecular
微梳齿驱动性能的耦合仿真研究
Extrusion formation mechanism on silicon surface under the silica cluster impact studied by molecula
微梳齿谐振器故障的动态仿真