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Integrated development of extreme ultraviolet lithography mask at 32 nm node
  • ISSN号：0253-2239
  • 期刊名称：Acta Optica Sinica
  • 时间：2013
  • 页码：-
  • 相关项目：自支撑薄膜上金纳米颗粒阵列的共有化表面等离子体共振研究
作者： Du, Yuchan|Li, Hailiang|Shi, Lina|Li, Chun|Xie, Changqing|
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期刊论文 8
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期刊信息
  • 《光学学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国光学学会 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 主编：曹健林
  • 地址：上海市嘉定区清河路390号
  • 邮编：201800
  • 邮箱：aos@siom.ac.cn
  • 电话：021-69916837
  • 国际标准刊号：ISSN：0253-2239
  • 国内统一刊号：ISSN：31-1252/O4
  • 邮发代号:4-293
  • 获奖情况:
  • 1992年中科院优秀期刊二等奖,1996年第二届上海市优秀期刊评比一等奖,2000年中科院优秀期刊一等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:33570