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肖特基势垒对铁磁/有机半导体结构自旋注入性质的影响
  • ISSN号:1000-3290
  • 期刊名称:物理学报
  • 时间:0
  • 页码:8856-8861
  • 分类:TN311.7[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]山东师范大学物理与电子科学学院,济南250014
  • 相关基金:国家自然科学基金(批准号:10904083 10904084); 山东省优秀中青年科学家科研奖励基金(批准号:BS2009CL008 2007BS01017); 山东省高等学校科技奖励计划(批准号:J09LA03)资助的课题
  • 相关项目:有机器件自旋扩散漂移性质理论研究与器件设计
中文摘要:

理论研究了铁磁/有机半导体肖特基接触时的电流自旋极化注入,并讨论了电流自旋极化率随界面处肖特基势垒高度、有机半导体层中特殊载流子及其迁移率、界面附近掺杂浓度的变化关系.通过计算发现,寻找在势垒区中载流子迁移率比较大的有机半导体材料对实现有效的自旋注入是必要的;同时还发现,由于铁磁/有机半导体接触而形成的肖特基势垒不利于自旋注入.因此要想实现有效的自旋注入,界面附近必须采用重掺杂来有效减少势垒区的宽度,且势垒的高度要限制在一定的范围内.

英文摘要:

Theoretically we have studied the current spin polarization in the structure of ferromagnetic /organic semiconductor under Schottky contact and discussed its variations with potential barrier height,the special carriers in organic semiconductor layer and the its mobilities,doping concentration near the interface.The calculations show that the high mobilities of the carriers in organic semiconductors are conducive to the spin injection.We also find that a significant depletion region at Schottky contact is highly undesirable for spin injection.For an efficient spin injection,the depletion region near the interface should be heavily doped and the effective barrier height should be restricted wichin certain range.

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期刊信息
  • 《物理学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会 中国科学院物理研究所
  • 主编:欧阳钟灿
  • 地址:北京603信箱(中国科学院物理研究所)
  • 邮编:100190
  • 邮箱:apsoffice@iphy.ac.cn
  • 电话:010-82649026
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3290
  • 国内统一刊号:ISSN:11-1958/O4
  • 邮发代号:2-425
  • 获奖情况:
  • 1999年首届国家期刊奖,2000年中科院优秀期刊特等奖,2001年科技期刊最高方阵队双高期刊居中国期刊第12位
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:49876