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Modeling Approach and Analysis of the Structural Parameters of an Inductively Coupled Plasma Etcher Based on a Regression Orthogonal Design
  • ISSN号：1009-0630
  • 期刊名称：《等离子体科学与技术：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：O657.31[理学—分析化学;理学—化学] TQ920.6[轻工技术与工程—发酵工程;化学工程]
  • 作者机构：[1]Department of Precision Instruments and Mechanology, Tsinghua University, Beijing 100084,China
  • 相关基金：supported by Important National Science ＆ Technology Specific Projects of China （No.2） （Nos. 2009ZX02001, 2011ZX02403）
作者： CHENG Jia ZHU Yu JI Linhong[1]
关键词： 电感耦合等离子体, 回归正交设计, 结构参数, 建模方法, 数值模拟实验, 刻蚀机, 等离子体特性, 电子数密度, fluid model, inductively coupled plasma, regression orthogonal, structural parameters, design of experiment
中文摘要：

E-mail address of CHENG Jia： chengjia@tsinghua.edu.cn

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期刊信息
  • 《等离子体科学与技术：英文版》
  • 主管单位:中国科学院 中国科协
  • 主办单位:中国科学院等离子体物理研究所 中国力学学会
  • 主编：万元熙、谢纪康
  • 地址：合肥市1126信箱
  • 邮编：230031
  • 邮箱：pst@ipp.ac.cn
  • 电话：0551-5591617 5591388
  • 国际标准刊号：ISSN：1009-0630
  • 国内统一刊号：ISSN：34-1187/TL
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  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引（扩展库）,英国科学文摘数据库
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