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Si3N4做电子加速层的聚[2-甲氧基-5-(2-乙基-己氧基)-1,4-苯撑乙烯撑]固态阴极射线发光
  • ISSN号:1000-3290
  • 期刊名称:《物理学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN873.3[电子电信—信息与通信工程] TQ174.758[化学工程—陶瓷工业;化学工程—硅酸盐工业]
  • 作者机构:[1]北京交通大学光电子技术研究所,发光与光信息技术教育部重点实验室,北京100044
  • 相关基金:国家自然科学基金(批准号:10774013,60576016)、国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA0320412)、教育部博士点基金(批准号:20070004024)、教育部博士点新教师科研基金(批准号:20070004031)、北京市科技新星计划(批准号:2007A024)和北京交通大学科技基金(批准号:2005SM057)资助的课题.
中文摘要:

用Si3N4作为电子加速层制备了固态阴极射线发光器件,其中发光层为聚[2-甲氧基-5-(2-乙基-己氧基)-1,4-苯撑乙烯撑](MEH—PPV).在交流电压的驱动下,实现了MEH—PPV的固态阴极射线发光.与SiO2做电子加速层的器件进行了对比研究,两种器件在交流电场的驱动下都得到了波峰位于417nm的短波长发光峰,它来自有机物中电子从最低未占分子轨道到最高占据分子轨道的直接复合发光,这进一步证明了固态阴极射线理论的正确性.在交流高场下比较了Si3N4和SiO2的电子加速能力,发现SiO2的电子加速能力要优于Si3N4的电子加速能力.

英文摘要:

A solid state cathodoluminescence (SSCL) device in which Si3N4 acts as the electronic accelerating layer and poly (2- methoxy-5-(2-ethyl-hexyloxy)-1, 4-phenylene vinylene (MEH-PPV) as the luminescent layer is first designed. Under alternating current bias, SSCL of MEH-PPV is realized. The luminescence peak is located at 600 and 417 nm, respectively, corresponding to the exciton emission and the recombination luminescence of lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) to highest occupied molecular orbital (HOMO). The intensity of the two peaks changes with the increasing of the driving voltage nonlinearly. Compared with the device with SiO2 as the accelerating layer, the short wavelength emissions are found to be the same and located at 417 nm for both devices, although their accelerating layers are different. It confirms the SSCL theory and the short wavelength is caused by the direct recombination of electrons in LUMO and holes in HOMO. Finally, the accelerating abilities of Si3 N4 and SiO2 are compared at high driving voltage, which showed that the accelerating ability of SiO2 is superior to that of Si3 N4 at the driving voltage involved.

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期刊信息
  • 《物理学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会 中国科学院物理研究所
  • 主编:欧阳钟灿
  • 地址:北京603信箱(中国科学院物理研究所)
  • 邮编:100190
  • 邮箱:apsoffice@iphy.ac.cn
  • 电话:010-82649026
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3290
  • 国内统一刊号:ISSN:11-1958/O4
  • 邮发代号:2-425
  • 获奖情况:
  • 1999年首届国家期刊奖,2000年中科院优秀期刊特等奖,2001年科技期刊最高方阵队双高期刊居中国期刊第12位
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:49876