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改善不同环境温度下SiGe HBT热稳定性的技术
  • ISSN号:1003-353X
  • 期刊名称:《半导体技术》
  • 时间:0
  • 分类:TN322.8[电子电信—物理电子学] TN306[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]北京工业大学电子信息与控制工程学院,北京100022
  • 相关基金:国家自然科学基金项目(60776051 61006059 61006044); 北京市自然科学基金项目(4082007); 北京市教委科技发展计划项目(KM200710005015 KM200910005001); 北京市优秀跨世纪人才基金项目(67002013200301)
中文摘要:

提出了发射极非均匀指间距技术以增强多发射极指SiGe HBT在不同环境温度下的热稳定性。通过建立热电反馈模型对采用发射极非均匀指间距技术的SiGe HBT进行热稳定性分析,得到多发射极指上的温度分布。结果表明,与传统的均匀发射极指间距SiGe HBT相比,在相同的环境温度及耗散功率下,采用发射极非均匀指间距技术的SiGe HBT,其最高结温明显降低,热阻显著减小,温度分布更加均匀,有效地提高了多发射极指功率SiGe HBT在不同环境温度下的热稳定性。

英文摘要:

A novel multi-finger power SiGe heterojunction bipolar transistor(HBT)with non-uniform finger spacing structure was proposed to improve the thermal stability under different ambient temperatures.The thermal simulation for a power SiGe HBT with a novel structure was achieved with a numerical electro-thermal model.The temperature distribution on emitter fingers was obtained.Compared with the traditional structure,the maximum junction temperature,temperature distribution and thermal resistance are significantly improved.The thermal stability is effective enhanced under different ambient temperatures.

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期刊信息
  • 《半导体技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 主编:赵小玲
  • 地址:石家庄179信箱46分箱
  • 邮编:050051
  • 邮箱:informax@heinfo.net
  • 电话:0311-87091339
  • 国际标准刊号:ISSN:1003-353X
  • 国内统一刊号:ISSN:13-1109/TN
  • 邮发代号:18-65
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,中国科技论文统计用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:6070