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Numerical simulation on turbulent flows in vertical chemical vapor deposition reactors
  • ISSN号：0022-0248
  • 期刊名称：Journal of Crystal Growth
  • 时间：2011.3.3
  • 页码：168-172
  • 相关项目：微颗粒-近壁湍流相互作用及减阻机理研究
作者： Tian, Yan|Li, Chang-Feng|Jiang, Hua-Hong|Li, Hui|Zuo, Ran|
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微颗粒-近壁湍流相互作用及减阻机理研究
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